Wasserzähler

Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer XPS-Anlage

Lieferung von Ultraschallgeräten zur klassischen Ultraschallprüfung und Prüfung mittels Phased Array. Die Geräte müssen für die klassische Ultraschallprüfung in den Lehrgängen der Stufe 1, 2 und 3, als auch für die Prüfung mittels Phased Array und TOFD nutzbar sein.

- Die Funktion ist innerhalb der Inbetriebnahme an Silizium-Wafern mit einer Dicke von mindestens 380µm mit einem Ätzstopp auf 1500-2500nm thermischem Siliziumdioxid nachzuweisen. Der Nachweis erfolgt durch eine Überätzung von rechnerisch >10µm nach Erreichen des Endpunktes. - Als Ätzmaske bei diesem Abnahmetest dient ebenfalls 1500-2500nm thermisches Siliziumdioxid mit geöffneten Strukturen von 250x250µm (+/-10µm) in einem x / y-Pitch von 3000µm, gleichverteilt über den Wafer. - Die Wafer werden durch den Auftraggeber im Rahmen des SAT (Anlagenabnahme am Bestimmungsort) zur Verfügung gestellt. - Die Parameter sind bei einem 100mm Wafer, innerhalb des 90mm durchmessenden Kernbereichs und bei einem 150mm Wafer innerhalb des 140mm Kernbereichs nachzuweisen (je 5mm Randausschluss). - Die durchschnittliche Ätzrate, ab dem Start der Ätzung, muss bei dem Test min. 10µm/min betragen. - Die einseitige Abweichung von der Tangente der Ätzflanke darf bei keiner Struktur mehr als 10µm betragen. 05 1 Endpunktdetektion Die Prozessüberwachung und die Endpunktkontrolle muss über die optische Analyse der Plasmaemission anhand der charakteristischen Emissionslinien erfolgen. Es muss mindestens der Bereich von 250 - 850nm zur Auswertung zugänglich sein. - Die Endpunktdetektion ist in Auflösung und Empfindlichkeit so zu realisieren, dass der Endpunkt auch bei geringen offenen Flächen <5% sicher detektiert wird. - Es sollen mindestens folgende Endpunktdetektionen bei max. 5% offener Fläche möglich sein: o Silizium-Ätzung mit Endpunkt auf SiO2 o Silizium-Ätzung mit Endpunkt auf Al o Silizium-Ätzung mit Endpunkt auf Photoresist o SixNy-Ätzung mit Endpunkt auf SiO2 o SixNy-Ätzung mit Endpunkt auf Si o SiO2-Ätzung mit Endpunkt auf Si 06 1 Software und Anlagensteuerung - Die Bediensoftware muss mindestens die folgenden Nutzerniveaus enthalten: o Bediener dem nur der Start bereits vorhandener Rezepte gestattet ist. o Ingenieur dem zusätzlich das Erstellen und Ändern von Rezepten gestattet ist (wahlweise mit Passwortschutz durch den Kunden). o Service den zusätzlich die manuelle Steuerung der Anlage und die Umgehung von Interlocks gestattet ist (wahlweise mit Passwortschutz durch den Kunden). - Wird als Betriebssystem Microsoft Windows eingesetzt, muss dieses auf Version 11 oder 10 LTSC basieren. - Die Bediensoftware muss einen automatisierten Leckagetest und MFC-Funktionstest enthalten. - Das Steuerungskonzept muss auf einer Direct One-to-one Verbindung zu den Sensoren und Aktoren basieren (Ein Steuerungskanal zu einem Sensor oder Aktor) - Es muss eine kanalweise Diagnostik für die Steuerungskanäle vorhanden (on/off) und die entsprechende Status Informaton (OK, Kurzschluss, Unterbrechung) - Das Datalogging muss in Intervallen ? 250 ms möglich sein. - Für die genaue Kontrolle der zeitlichen Abfolge in den Prozessen müssen Prozessschritte bis zu einer Gesamtlänge von ? 10 ms definiert werden können. - Die Anzahl der anlegbaren Prozessrezepte soll nicht anlagenseitig auf einen Wert kleiner 5000 begrenzt sein. - Die Softwarelösung muss SEMI E95 konform gestaltet sein. 07 1 Installation/Schulung - Installation der Soft- und Hardware - Grundschulung der Anwender (Bedienung der Soft- und Hardware, Umgang mit Betriebsmitteln, In- und Außerbetriebnahme, Wartung) - Zur Anlage ist ein Bedienerhandbuch, Servicehandbuch und Stromlaufplan in deutscher oder englischer Sprache zu liefern. 08 1 Geforderte Prozessprameter und deren Überprüfbarkeit Der Anbieter muss bestätigen, dass er über ein Applikationslabor verfügt, welches mittels öffentlicher Verkehrsmittel, einem PKW oder der Kombination beider innerhalb von 12h vom Bestimmungsort aus erreichbar ist. Innerhalb dieses Applikationslabors muss mindestens eines der angebotenen Systeme (mit den nicht optionalen Grundfunktionalitäten) betrieben werden und für Anlagentests zur Verfügung stehen. Zudem behält sich der Käufer vor, die angegebenen Parameter an dieser Anlage innerhalb des Evaluationsprozesses der Angebote vor Ort bei dem Anbieter zu überprüfen. Auf Anfrage muss diese Überprüfung innerhalb einer Woche nach Ankündigung möglich sein. Geforderte Prozessparameterkombinationen lt. Leistungsbeschreibung. Die geforderten Prozesse mit den entsprechenden Parametern sind in geeigneter Form (z.B. wie die innerhalb der in dieser Ausschreibung im Leisrtungsverzeichnis FB 27 verwendete Tabelle) dem Angebot beizufügen. 09 1 Verpackung / Transport / Abladen / Einbringen / Leistungsort: Westsächsische Hochschule Zwickau Hochtechnologiezentrum Peter- Breuer-Straße 5-11 08056 Zwickau Lieferung nach Incoterms 2020 DAP oder DDP, Fracht bis zur ebenerdig und rollend mit erreichbaren Entladestelle an der Lieferzufahrt Dr.-Friedrichs-Ring 2C, 08056 Zwickau, Deutschland Lieferzeit: max. 50. KW nach Beauftragung

Das Fraunhofer Institut für Mikrostruktur von Materialien und Systemen benötigt für die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten an elektronischen Bauteilen und optischen Gläsern ein modulares Digitalmikroskopsystem mit einer Element-Analyseeinheit, das wie folgt ausgelegt werden soll (siehe auch vorliegende Systembeschreibung): Beschafft werden soll ein modular aufgebautes, zusammenhängendes Digitalmikroskopie- und Analysesystem, bestehend aus drei Arbeitsplätzen, für den Einsatz in einer öffentlich geförderten Forschungseinrichtung. Das Gesamtsystem besteht aus zwei eigenständig nutzbaren Basissystemen sowie einem dritten, umsteckbaren Arbeitsplatz und ist so auszulegen, dass ein durchgängiger Workflow von der makroskopischen Übersicht über die hochauflösende Detailanalyse bis hin zur digitalen Messung, Dokumentation und quantitativen Materialanalyse (prozentuale Ausgabe) ermöglicht wird. Das System muss einen sehr breiten Anwendungsbereich abdecken. Es soll von großflächigen Übersichtsaufnahmen bis zur hochauflösenden Mikroanalyse sowie für unterschiedliche Materialien, Oberflächen, Probengrößen und Geometrien geeignet sein. Hierzu sind verschiedene Makro-, Übersichts- und Hochvergrößerungsoptiken sowie mehrere Stativ- und Tischkonfigurationen bereitzustellen. Unterschiedliche Beleuchtungs- und Betrachtungsmodi ( B. Hell- /Dunkelfeld, Polarisations- und Schrägbeleuchtung sowie DIC) müssen integriert und softwareseitig steuerbar sein.

BP Elektrotechnik WB 2024 Digitalisierung: Didaktikkoffer

Der Kauf umfasst drei Pflanzenwachstumsinkubatoren für die Aufzucht von Pflanzen in Erde unter definierten und flexiblen Bedingungen. Um die Flexibilität zu erhöhen, werden austauschbare Leuchten für einen Inkubator erworben, die eine Anpassung des Lichtspektrums ermöglichen.

1-3-41-Färbeautomat mit Eindecker

Le Laboratoire cantonal du Valais désire acquérir deux LC-MS/MS afin de pouvoir analyser les contaminants, les résidus ou les additifs dans les denrées alimentaires, les objets usuels (cosmétiques) ou les eaux. Les spécifications de l’appareil doivent va à celles décrites dans le cahier des charges. L’appareil doit être livré et installé clé en main ; son bon fonctionnement devra être validé et documenté (p.e. IQ-OQ-PQ) ; le personnel technique devra être formé à l’utilisation de l’appareil en français. Le service après-vente devra être de qualité. Le budget alloué pour le projet est de 700 KCHF TTC.

Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument.

Le Laboratoire cantonal du Valais désire acquérir deux LC-MS/MS afin de pouvoir analyser les contaminants, les résidus ou les additifs dans les denrées alimentaires, les objets usuels (cosmétiques) ou les eaux. Les spécifications de l’appareil doivent va à celles décrites dans le cahier des charges. L’appareil doit être livré et installé clé en main ; son bon fonctionnement devra être validé et documenté (p.e. IQ-OQ-PQ) ; le personnel technique devra être formé à l’utilisation de l’appareil en français. Le service après-vente devra être de qualité. Le budget alloué pour le projet est de 700 KCHF TTC.